LASER / CO₂
Semicon. Wafer cleaning
C3100 (Ringframe Wafer Cleaning System)
- Ring frame 웨이퍼 표면에 존재하는 각종 파티클성 오염물질을 제거합니다.
- 카셋트 로딩 방식으로 전공정 자동화 시스템입니다.

< Ringframe wafer cleaning – C3100 >

< Ringframe wafer cleaning – C3100 >