LASER / CO₂ Semicon. Wafer cleaning C3100 (Ringframe Wafer Cleaning System) Ring frame 웨이퍼 표면에 존재하는 각종 파티클성 오염물질을 제거합니다. 카셋트 로딩 방식으로 전공정 자동화 시스템입니다. < Ringframe wafer cleaning – C3100 >