EUV Mask Baking System

SOL B 5.0

• EUV 마스크 PEB(Post Exposure Baking)용 베이킹 기술 시장 선도
• PEB 애플리케이션을 위한 정교한 이미지 처리 알고리즘
• LWR(Line Width Roughness) 개선
• IMT 특허 빔 전달 방법
• 고객 현장에서 검증된 시스템