EUV Mask Baking System

SOL B 5.0

• EUV 掩模PEB(曝光后烘焙) 烘焙技术的市场领导者
• 通适用于 PEB 应用的复杂图像处理算法
• 改善LWR(线宽粗糙度)
• IMT 专利光束传输方法
• 系统在客户现场验证