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 Partion-1000

PARTION: Nano Particle Monitoring Solution

[Equipment Overview]

- SMPS와 IMT Sample Introduction을 결합해 고순도 Chemical·Gas 내 나노입자의 Size와 Count를 자동 분석

- Nebulizing · Drying · Charging · DMA · CPC 전 과정을 통합하고 Vaizer 연계를 통해 Particle과 Metal Contamination의 Wafer 전사 평가를 지원

[Performance]

• 측정 범위: 표준 2 ~ 150 nm · 구성 확장 시 1 ~ 1,000 nm

• Sample Flow: 100 μL/min

• 분석 구성: DMA + CPC

• 분석 항목: Particle Size · Count · Distribution

• 보정 기능: PTE / Drift Correction

• 확장 평가: Vaizer 연계 Wafer 전사 평가