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 Helion-2000

HELION: Gas Metal Contamination Monitoring

[Equipment Overview]

- 반도체 공정 Gas를 GEM로 Ar Matrix 치환한 뒤 ICP-MS와 직접 연계해 초미량 금속 오염을 실시간 분석

- Gas Supply · Tool Interface의 오염 추이를 상시 감시하고 공급 품질 이상을 조기에 감지하여 Alarm과 대응 판단을 지원

[Performance]

• Ar Matrix 치환율: 95% 이상

• 분석 주기: 5 ~ 10 min

• Low Detection Limit: 0.1 ppt 이하

• 분석 구성: GDI + ICP-MS · 타 분석 장비 확장 연계

• 운전 방식: Online · Automated

• 결과 활용: Real-Time Trend · Alarm / Action