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 Vaizer-1000 / Vaizer-2000

VAIZER: Wafer Metal Contamination Control

[Equipment Overview]

- 8·12인치 웨이퍼 표면과 산화막의 초미량 금속 오염을 VPD로 용출·회수하고 ICP-MS로 정량하는 완전 자동화 설비

- VPD · Scan · Chemical Dispense · Clean/Dry 공정을 통합해 공정 이상 조기 감지, 원인 분석 및 Fab Routine Control을 지원

[Performance]

• 처리량: 3.5 WPH 이상 · 확장 모델 최대 7 WPH

• 식각 속도: 30 nm/min 이상

• 분석 원소: 최대 34종 · 자동 검량선 R² ≥ 0.995

• 검출 성능: <0.05 ppb · 10⁷~10⁸ atoms/cm²

• 완전 자동 약액 조제 및 OHT · SECS/GEM 연계