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LASER / CO₂

LASER / CO₂

Semicon. Wafer cleaning

C3100 (Ringframe Wafer Cleaning System)

  • Ring frame 웨이퍼 표면에 존재하는 각종 파티클성 오염물질을 제거합니다.
  • 카셋트 로딩 방식으로 전공정 자동화 시스템입니다.
  • < Ringframe wafer cleaning – C3100 >