EUV Mask Annealing System

SOL A 5.0

• 用于半导体光刻工艺的EUV掩模的激光热处理
• 通过激光处理控制反射率
• 比化学方法更简单，减少工艺步骤数
• 经过现场验证的系统 : 软件稳定性和鲁棒性